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        薄膜制備方法
        
						  
            按成膜機(jī)理分類，薄膜的制備方法可大致分為物理方法和化學(xué)方法兩大類。
            物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)是利用某種物理過(guò)程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)或在受到粒子束轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)從原物質(zhì)到薄膜的可控的原子轉(zhuǎn)移過(guò)程。物理氣相沉積的主要特點(diǎn)是:
            (1)需要使用固態(tài)的或者熔化態(tài)的物質(zhì)作為沉積過(guò)程的原物質(zhì)；
        
						  
						  
						  
						  
						  
						  
						
        
						 




					
        
				
        
				
        
			
        
		
        
	
        

        




        

	
	
		
		
		
		
		
		


		

		
		

	
	



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